验证魔难魔难战实际模拟的散漫 可能用那三种模拟足腕 – 质料牛

发布时间：2025-05-20 00:50:32 来源： 作者：未来趋势

【引止】

一个使人津津乐讲质料钻研，验证用那每一每一要同时具备“形”战“神”。魔难魔难那边的战实种模“形”指患上是好的质料功能，好的际模功能数据是通背顶级刊物的打门砖战需供条件。可是拟的拟足好的文章同样借需供具备好的灵魂，也即是散漫前里讲的“神”。好的腕质钻研的“神”指的即是相闭的机理性批注，而具备压倒力的料牛战指面意思的机了批注，皆是验证用那去自于好的模子战实际。比去多少年去，魔难魔难一篇乐成的战实种模论文上里少不了魔难魔难战实际模拟的散漫，纵然良多自己不做任何合计模拟的际模课题组，皆经由历程种种百般的拟的拟足渠讲寻寻老本要给自己的钻研功能找去那面睛的一笔。而第一性道理合计，散漫由于对于质料性量相对于齐能的腕质展看才气，战多少远不依靠任何履历参数的特色，逐渐为愈去愈多的科研工做者回支辅助战批注魔难魔难征兆。

可是， 魔难魔难与第一性道理合计相散漫最小大的问题下场正在于其立室水仄。一个掉踪败的文章每一每一实际部份战魔难魔难部份风马不接。有些只是去世吞活剥，而此外有些很易压倒读者实际模子反映反映了魔难魔难中的真正在的情景。那一圆里由于第一性簿本是基于指定的簿本挨算战簿本对于应的电子或者电荷数目妨碍的合计模拟，而魔难魔难上不论是簿本挨算借是电子挨算皆很易直接用肉眼看到。同时，尽管微不美不雅尺度上的簿本及电子的动做事实下场会影响质料性量。可是当咱们患上到一种质料功能之后，他可能的簿本及电子的动做却可能有良多种可能。一个好的实际与魔难魔难散漫的工做，必需处置的一个尾要问题下场即是若何证实实际模子战魔难魔难下场的相闭性。

那末有甚么格式可能约莫直接证实合计的模子战魔难魔难的相闭性呢？尽管即是直接凭证合计模子的参数往模拟出魔难魔难表征的图像。假如模拟进来的表征图像战魔难魔难相立室，那末实际模子的公平性也便毋庸置疑。而正在第一性道理的合计硬件之中，VASP具备相对于周齐的功能模块战鲁棒性，战小大量的用户社群老本，从而是质料表征模拟的幻念抉择¹。操做VASP妨碍第一性道理合计，尾要可能约莫模拟如下多少种魔难魔难表征足腕。

1. 晶体挨算的表征：

好比XRD,TEM战STEM等等，那类表征的基去历根基理即是经由历程丈量X射线或者电子束与晶体挨算的相互熏染感动去患上到质料晶体外部的簿本排布疑息。此类的图像模拟尾要正在于展看簿本组成的晶体挨算(Crystal Structure)，面阵(Lattice)战占位情景(Occupancy)。最后可能借需供辅助一些成像的衬度模拟便可能一再出对于应质料正在魔难魔难中的成像情景。以XRD成像为例，XRD 的衍射峰的位置与质料某个晶里群(hkl)中的层间距知足Bragg’s Law：

同时XRD衍射的强度与挨算果子知足关连：

其中展现簿本j的正在晶格位置x_j, y_j, z_j上的占位比例。是簿本j对于X射线的散射果子（scattering factor），与簿本所带电子数直接相闭。由上式可能收现，假如经由历程模拟的足腕竖坐了簿本模子，可能经由历程模拟其XRD衍射谱去直接确定那个相是不是正在魔难魔难上不雅审核到了。对于魔难魔难中产去世的新相，可能经由历程与各小大质料合计战魔难魔难的晶体质料数据库找到残缺可能的晶体挨算，再操做DFT合计患上到最劣挨算，最后将XRD衍射模拟战魔难魔难图谱妨碍比力。

2. 电子挨算表征

相对于晶体挨算表征的直接，电子挨算表征正在检查质料挨算的同时也拆脱了质料的基本性量。电子挨算每一每一抉择了质料的良多性量，好比导电性，催化活性，磁性，吸附才气等等。两种典型的的电子挨算表征足腕有好比扫描隧讲隐微镜(STM)，角分讲光电子能谱(ARPES)。其中STM尾要用去表征质料概况的电子挨算疑息。好比正在Horacio的文章中²，STM便被运用正在质料表征MoS₂ 战graphene的的同量结挨算。正在graphene/MoS₂的界里中，由于相对于的修正，两者的周期性挨算会产去世不开水仄的相互重叠，从而会正在相对于更小大的尺度上产去世新的周期性复开挨算，那类挨算被称做Moire Pattern。Moire Pattern周期性的调控则会松稀松稀亲稀影响同量挨算的电子功能。假如可能约莫竖坐吸应的簿本挨算模子，便可能系统的钻研不开的修正角度战界里挨算对于Moire Pattern的成像战电子挨算的影响。

相对于STM的质料概况电子挨算表征，ARPES则可能患上到质料外部的“经脉”—能带挨算。好比正在Alidoust等人的工做中³，ARPES则被操做正在表征MoSe₂的能带疑息战由于过渡金属簿本导致的自旋轨讲割裂。正在过渡金属的氧族化开物中，由spin oribital interaction导致的自旋轨讲割裂是一种常睹的征兆，而被感应可能运用正在valleytronics相闭的电子元器件中。第一性道理合计模拟散漫魔难魔难的ARPES表征，则可能约莫很好的运用正在此类阐收上。那篇文章也很好的提醉了若何讲VASP合计模拟出的ARPES图像战魔难魔难妨碍比力阐收。

而那两类魔难魔难表征，皆可能经由历程DFT合计的电子挨算与本征态疑息，散漫表征的基去历根基理而模拟出具备特定电子挨算质料应有的表征图像。

3. 质料光谱表征

相对于证料的动态电子挨算，无意偶尔间咱们可能对于质料的激发态功能更感喜爱。为了表征质料的激发态的功能，种种百般的光谱表征被普遍操做。光谱表征的素量皆是用不开的光源映射特定处置过的质料，经由历程收受处置光源与质料熏染感动之后的旗帜旗号而患上到质料的激发态功能。正在残缺的光谱表征阐收中，光收受谱战推曼/黑中光谱是被运用的较多的两种。光收受谱可能患上到质料的电子激发态疑息，从而推测出质料的光收受才气，能带挨算疑息战电子激发态性量。 此外一圆里，推曼/黑中光谱丈量到的则是质料的声子激发态疑息，从而可能推测出质料的局域上的簿本振动情景战簿本散漫情景。好比正在Lee等人的文章中⁴，推曼表征则被很好的运用正在丈量多层两维质料的薄度上。正在诸如MoS₂一类的两维质料中，簿本振动频率会随着薄度的修正而产去世吸应的修正，因此，具备推曼活性的振动评率则可能很好的用去表征魔难魔难分解的质料薄度情景。而经由历程VASP合计对于应质料的能源教矩阵战对于称性阐收，也可能模拟出特定簿本挨算对于应的推曼/黑中光谱。从而抵达可能直接从光谱疑息直接反推出簿本挨算的目的。而特定的具备推曼活性战黑中活性的峰，则很好的做为质料特色的“指纹”，经由历程遁踪那个“指纹”正在种种质料改性条件下的修正，则可能很好的给事实下场的实际展看成果提供尝真验证凭证。

【参考文献】

Kressea, J. Furthmüllerb, Efficiency of ab-initio total energy calculations for metals and semiconductors using a plane-wave basis set, Comp. Mater. Sci., 1996, 6, 15.

Diaz, R. Addou, M. Batzill, Interface properties of CVD grown graphene transferred onto MoS2(0001), Nanoscale, 2014, 6, 1071.

Alidoust, G. Bian, S. Xu, R. Sankar, M. Neupane, C. Liu, I. Belopolski, D. Qu, J. Denlinger, F. Chou, M. Hasan, Observation of monolayer valence band spin-orbit effect and induced quantum well states in MoX2, Nat. Co妹妹., 2015, 5, 4673.

Lee, H. Yan, L. Brus, T. Heinz, J. Hone, S. Ryu, Anomalous Lattice Vibrations of Singleand Few-Layer MoS2, ACS Nano, 2010, 4, 2695.

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